دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
دسته بندی: نورشناسی ویرایش: نویسندگان: Uzodinma Okoroanyanwu سری: Press Monographs ISBN (شابک) : 9781628415513 ناشر: SPIE Press سال نشر: 2015 تعداد صفحات: 491 زبان: English فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) حجم فایل: 25 مگابایت
در صورت تبدیل فایل کتاب Molecular Theory of Lithography به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب نظریه مولکولی لیتوگرافی نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
این کتاب یک توضیح یکپارچه از نظریه مولکولی است که زیربنای تصویربرداری لیتوگرافی است. با تئوری های فیزیکی-شیمیایی، برهمکنش های سطح مولکولی درگیر در تصویربرداری لیتوگرافی را توضیح می دهد. همچنین مبنای نظری عملیات واحد اصلی فرآیند لیتوگرافی پیشرفته، و همچنین مکانیسم های تصویربرداری لیتوگرافی پیشرفته، از جمله مکانیسم های تصویربرداری فتوشیمیایی و رادیوشیمیایی، چاپ، و مکانیسم های تصویربرداری خود مونتاژ کوپلیمر بلوک هدایت شده را فراهم می کند. این کتاب برای دانشجویان و متخصصانی است که دانش لیتوگرافی به شیمی و فیزیک زیر اشکال مختلف آن گسترش می یابد. آشنایی با سینتیک شیمیایی، ترمودینامیک، مکانیک آماری و مکانیک کوانتومی مفید خواهد بود، همانطور که آشنایی با مفاهیم اولیه در فیزیک مانند انرژی، نیرو، الکترواستاتیک، الکترودینامیک و اپتیک مفید خواهد بود.
This book is a unified exposition of the molecular theory that underlies lithographic imaging. It explains with physical-chemical theories the molecular-level interactions involved in lithographic imaging. It also provides the theoretical basis for the main unit operations of the advanced lithographic process, as well as for advanced lithographic imaging mechanisms, including photochemical and radiochemical, imprint, and directed block copolymer self-assembly imaging mechanisms. The book is intended for student and professionals whose knowledge of lithography extends to the chemistry and physics underlying its various forms. A familiarity with chemical kinetics, thermodynamics, statistical mechanics, and quantum mechanics will be helpful, as will be familiarity with elementary concepts in physics such as energy, force, electrostatics, electrodynamics, and optics.